S'ha aconseguit un avenç en la producció en massa per a un innovadorcom disparatsubstrat ceràmic de nitrur de silici amb un gruix de només 70 micròmetres (0,07 mm) - establint un nou rècord nacional per a la producció de substrats de nitrur de silici ultra prim i elevant la capacitat d'industrialització de l'empresa a un nivell de primer nivell en la indústria.
L'equip de desenvolupament ho va aconseguir mitjançant tecnologies clau que inclouen un control precís de la fase cristal·lina i l'optimització de les pols ultrafines. També van adoptar un nou procés integrat de conformació i sinterització en un sol pas que elimina l'etapa de mòlta, permetent la cocció directa a gairebé 2000 graus. Aquest enfocament millora significativament l'ús del material i l'eficiència de la producció. Els substrats resultants no només assoleixen un gruix rècord de 70 μm, sinó que també suporten una flexió d'angle gran de fins a 120 graus sense fractura, amb una resistència a la flexió estable de 1200 MPa i una conductivitat tèrmica d'aproximadament 85 W/m·K.
Els substrats de nitrur de silici s'utilitzen principalment en l'embalatge de xips informàtics d'IA, mòduls de conducció de vehicles elèctrics i altres dispositius d'alta potència. Les ceràmiques són intrínsecament dures i trencadisses, i per als substrats de nitrur de silici, el trencament i la deformació són habituals durant la formació i la sinterització - com més prim és el substrat, menor és el rendiment de producció. Actualment, els substrats de producció nacional solen tenir un gruix d'uns 0,254 mm. El gruix determina directament la resistència tèrmica: un substrat més prim redueix la resistència tèrmica i escurça el camí de dissipació de la calor, que és fonamental per satisfer les demandes de refrigeració de components d'alta potència com els xips AI. Al mateix temps, els substrats ultra prims estalvien un espai valuós en dispositius electrònics, cosa que els converteix en clau per a la miniaturització i la lleugeresa dels mòduls.
Aquest avenç en substrats ceràmics de nitrur de silici ultra prim representa un avenç significatiu en materials ceràmics avançats. No només supera el coll d'ampolla tècnic "prim però fràgil" de llarga data, sinó que també proporciona una base material crítica per a la miniaturització, alta fiabilitat i gestió tèrmica eficient de dispositius electrònics d'alt rendiment mitjançant rutes de processament innovadores.